半導體純水系統技術(shù)應用成為行業(yè)用水重中之重

時(shí)間：2022-10-17

　　半導體行業(yè)是一個(gè)高能耗的行業(yè)。在半導體產(chǎn)品制造過(guò)程中，由于生產(chǎn)設備的精密性和生產(chǎn)工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水系統的使用要求更高。

　　在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需要進(jìn)行化學(xué)處理，而化學(xué)處理又與超純水有關(guān)水中的雜質(zhì)會(huì )進(jìn)入硅片，如帶入過(guò)量的雜質(zhì)，就會(huì )導致器件性能下降、影響產(chǎn)品性能。因此，制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規模集成電路的重要前提技術(shù)。

　　超純水既將水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì)，更沒(méi)有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒(méi)有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。電阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm極限值(25℃)。

　　超純水處理是一般工藝很難達到的程度，萊特萊德采用預處理、反滲透技術(shù)、靶向離子交換系統以及后級處理四大步驟，獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子能夠穩定≤5ppt。

　　半導體業(yè)由于技術(shù)發(fā)展迅速、市場(chǎng)變化大，其生產(chǎn)能力具有波動(dòng)性。所以，要求與之配套的半導體純水系統要有一定的可調節性、留有合理的余量，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時(shí)性,提出了更高的要求。萊特萊德半導體純水系統投入運行后，能夠生產(chǎn)出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導體用水提供用水保障。

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